Resistance of model humic acids to ultraviolet-c radiation
1
Institute of Dendrology, Polish Academy of Sciences, ul. Parkowa 6, 62-035 Kórnik
e-mail: patrykos@autograf.pl
2
Radiochemistry Laboratory of the Department of Physical Chemistry, Faculty of Chemical Technology, Poznan University of Technology, ul. Piotrowo 3, 60-695 Poznań
3
Institute of Ecotechnology, Higher Vacational State School, ul. K. Kard. S. Wyszynskiego 38, 62-200 Gniezno
Acta Agroph. 2007, 9(1), 191-202
KEYWORDS
ABSTRACT
Increasing penetration of UV radiation into the Biosphere raises the question about the photo resistance of humic substances. Is there any dependence between the photoresitance and chemical composition of their precursors? Humic acids synthesized from pyrocatechol, hydroquinone + tyrosine, purpurogalline and commercial Fluka of natural origin were irradiated with the UV-C radiation. Fluorescence emission spectra, chemiluminescence imaging and absorption spectra of alkali solutions of humic acids before and after various time of irradiation were measured. The most resistant to UV-C radiation was synthetic humic acid from pyrocatechol, and the most labile was humic acid obtained from purpurogalline. Possible causes of the high/low photo resistance of humic acids are shortly considered.
METADATA IN OTHER LANGUAGES:
Polish
Wytrzymałość modelowych kwasów humusowych na promieniowanie UV-C
Kwasy humusowe, fotowytrzymałość, promieniowanie UV-C, widma luminescencji, obrazowanie chemiluminescencji
Promieniowanie UV coraz to bardziej przenikające przez Biosferę stawia pytanie o fotowytrzymałość substancji humusowych. Czy istnieje zależność między fotowytrzymałością a składem chemicznym prekursorów kwasów humusowych. Zsyntetyzowano kwasy humusowe z pyrokatecholu, hydrochinonu + tyrozyna, purpurogaliny oraz użyto dla porównania naturalnych kwasów Fluka. Były one napromieniowywane UV-C. Mierzono widma emisji fluorescencji, absorpcji oraz chemiluminescencję roztworów alkali kwasów humusowych przed i po różnych czasach napromieniowania. Najbardziej odporny na promieniowanie UV-C był syntetyczny kwas humusowy otrzymany z pyrokatecholu, natomiast najbardziej labilny był kwas humusowy otrzymany z purpurogaliny. Możliwe powody wysokiej/ niskiej fotowytrzymałości kwasów humusowych na UV-C są krótko omówione.
Share
RELATED ARTICLE
| eISSN: | 2300-6730 |
| ISSN: | 1234-4125 |
We process personal data collected when visiting the website. The function of obtaining information about users and their behavior is carried out by voluntarily entered information in forms and saving cookies in end devices. Data, including cookies, are used to provide services, improve the user experience and to analyze the traffic in accordance with the Privacy policy. Data are also collected and processed by Google Analytics tool (more).
You can change cookies settings in your browser. Restricted use of cookies in the browser configuration may affect some functionalities of the website.
You can change cookies settings in your browser. Restricted use of cookies in the browser configuration may affect some functionalities of the website.
