RESEARCH PAPER
Foaming environment – analysis of advantageous conditions for advanced oxidation technologies
 
More details
Hide details
1
Department of Electrical and Electronic Engineering. School of Science and Engineering, Saga University, I Honjo-machi, Saga 840-8502, Japan
2
Prywatna Wyższa Szkoła Ochrony Środowiska. ul. Zubrzyckiego 6. Radom, Poland
Publication date: 2021-04-14
 
Acta Agroph. 2002, (80), 173–179
 
KEYWORDS
ABSTRACT
In this paper the foaming system was presented. Foam was formed in a very strict gas flow conditions. The electrical discharge leaded to the oxidants formation. The low amount of gaseous and dissolved ozone was detected. The high concentration of hydrogen peroxide was measured. Presence of OH radicals was confirmed. The foaming system is an example of the modern AOT reactor with the expanded contact area between gaseous phase and thin liquid film.
METADATA IN OTHER LANGUAGES:
Polish
Faza piany – analiza korzystnych warunków do przebiegu zaawansowanych technologii utleniania
system pianowy, wyładowania w pi anie. AOP, ozon, nadtlenek wodoru, rodniki OH
W pracy przedstawiono możliwości wykorzystania fazy piany w procesach AOT (zaawansowane techniki utleniania). Wyładowania elektryczne w pianie powodują powstawanie takich czynników utleniających jak ozon (niskie stężenie), nadtlenek wodoru (wysokie stężenie), rodniki OH. System pianowy jest przy kładem nowoczesnego reaktora AOT z ułatwionym kontaktem fazy gazowej i cienkiej warstwy ciekłej.
eISSN:2300-6730
ISSN:1234-4125