Modelling of content of fusarium infested material in ground wheat based on optical spectra recorded in different wavelength ranges
 
More details
Hide details
1
Institute of Mathematics and Physics, University of Technology and Life Sciences, ul. Kaliskiego 7, 85-796 Bydgoszcz
2
Faculty of Phytopathology, University of Technology and Life Sciences, ul. Kordeckiego 20, 85-255 Bydgoszcz
 
Acta Agroph. 2008, 11(2), 323–334
KEYWORDS
ABSTRACT
The paper presents application of diffuse reflectance spectroscopy for detection of fusariosis in ground grain of several winter wheat cultivars. Spectral measurements were made for series of samples of different particle sizes (three fractions: particle size <0.18 mm, >0.18 mm and <0.25 mm or 0.355 mm, >0.25 mm or 0.355 mm) in a wide spectral range from 200 nm to 2500 nm. Calibration models were built using the PLS method for three sub-ranges: UV (200-400 nm), VIS (400-800nm) and NIR (800-2500 nm). The study demonstrates that ultra-violet reflectance spectros-copy in several cases has greater potential for prediction of infested material content than the most common NIRS. A special gain is observed for the finest fraction, where the efficiency of the models is very good (RER>35).
METADATA IN OTHER LANGUAGES:
Polish
Modelowanie zawartości materiału porażonego fuzariozą w rozdrobnionym ziarnie pszenicy na podstawie odbiciowych widm optycznych rejestrowanych w różnych zakresach długości fali
fuzarioza, odbiciowa spektroskopia dyfuzyjna, kalibracja wielowymiarowa, spektroskopia bliskiej podczerwieni (NIRS)
W pracy przedstawiono zastosowanie spektroskopii odbiciowej do wykrywania porażenia fuzariozą w rozdrobnionym ziarnie kilku odmian pszenicy ozimej. Pomiary spektrometryczne wykonano dla próbek o różnym stopniu rozdrobnienia (trzy frakcje o rozmiarach cząstek <0,18 mm, >0,18 mm i <0,25 mm lub 0,355 mm, >0,25 mm lub 0,355 mm) w szerokim zakresie długości fal od 200 nm do 2500 nm. Modele kalibracji wielowymiarowej budowano przy użyciu metody PLS w trzech podzakresach długości fal: UV (200-400 nm), VIS (400-800 nm) i NIR (800-2500 nm). Otrzymane wyniki pokazują, że zakres ultrafioletu pozwala w wielu wypadkach na zbudowanie modeli kalibracyjnych jakościowo lepszych w stosunku do modeli opartych na widmach NIR, a szczególny zysk obserwuje się dla najdrobniejszej frakcji materiału, gdzie wydajność modeli jest bardzo dobra (RER>35).
eISSN:2300-6730
ISSN:1234-4125